在90nm处，蚀刻工艺工程师工作内容接触孔蚀刻的步骤顺序是先去除光刻胶后蚀刻接触孔停止层，而在65nm/55nm处，则采用先蚀刻接触孔停止层去除光刻胶的步骤顺序。由于90nm和65nm/55nm器件的临界尺寸要求，基本上不需要刻蚀工艺来收缩接触孔的尺寸。表面蚀刻在等离子体作用下，蚀刻工艺是什么意思材
