CVD可用于沉积多晶硅薄膜、氮化硅薄膜、二氧化硅薄膜以及钨等金属薄膜。此外，薄膜电晕处理好吗在微三极管与在电路中起连接作用的细导线之间的绝缘层上也采用了CVD技术。CVD反应后，部分残留物会沉积在CVD反应室内壁。这里的危险在于，这些残留物会从内壁分离出来，污染后续的循环过程。因此，在新的沉积工艺开
