因此，亲水性物质是指什么可以获得具有不易受半导体制造工艺条件影响的稳定绝缘膜的半导体衬底。在用于对半导体衬底进行等离子体处理的等离子体装置中，处理容器包括半导体衬底、用于将微波引入处理容器的微波引入部分和用于向处理容器供应处理气体的气体供应部分。制程容器同时供给氧气和氮气，半导体衬底表面同时进行氧化
