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在等离子蚀刻过程中,基材比较薄的附着力检测蚀刻剂在处理(气体)气体的作用下转化为气相(例如,用氟气蚀刻硅)。工艺(气体)气体和基材由真空泵抽出,新工艺(气体)气体不断覆盖表面。不要腐蚀。某些材料的使用被覆盖(如半导体工业中使用的铬。等离子蚀刻。处理过的(气体)气体的作用会引起腐蚀,被蚀刻的材料被
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