干法等离子清洗主要是利用氧在等离子体中产生的活性氧与光刻胶发生反应生成二氧化碳和水以达到去除光刻胶的目的它能对高温烘烤过的胶显影后的底胶以及铝电极和大剂量离子注入过的胶进行清洗目前普遍采用的干法清洗光刻胶工艺都是在真空室里利用低气压氧等离子体来进行清洗。等离子清洗光刻胶等离子体清洗具有工艺简单、操作
