随着温度的降低，等离子是什么概念由于在含有半导体元件的表面形成残留物、刻蚀气体和残留背景气体，刻蚀速率受到表面环境的限制。。等离子体表面处理器超低温等离子体刻蚀技术的应用；巴克拉诺夫研究组报告了等离子体表面处理器在极低温下刻蚀低介电常数多孔有机硅酸盐(OSG)。这种材料常作为半导体后端大马士革工艺的
