清洗通常是指在不破坏材料表面特性及电特性的前提下,有效地清除残留在材料上的微尘、金属离子及有机物杂质。目前已广泛应用的物理化学清洗方法,大致可分为两类:湿法清洗和干法清洗。微电子工业中的清洗也同样是一个很广的概念,包括任何与去除污染物有关的工艺。湿法清洗在现阶段的微电子清洗工艺中还占据主导地位。但是
