135-3805-8187
亲水性判定(实验室疏水性亲水性判定)

亲水性判定(实验室疏水性亲水性判定)

提高粘合性的研究已成为热门话题。用Ar/O2等离子体清洗HDPE薄膜,实验室疏水性亲水性判定观察表面亲水性的变化,等离子体处理时间、分层温度、分层时间的不同对HDPE薄膜与硅烷处理玻璃的结合强度的影响为调查了。通过研究HDPE薄膜与玻璃的条件,我们实现了两者的完美结合,拓展了其在电子材料、医疗器械等

培养皿等离子体蚀刻(培养皿等离子体蚀刻机器)

培养皿等离子体蚀刻(培养皿等离子体蚀刻机器)

由于碳原子之间缺乏规则的固定位置,培养皿等离子体蚀刻机器薄片的边缘是不均匀的。与石墨结构相比,碳纤维的C原子层之间发生不规则的平移和旋转,但通过六角网络共价键键合的C原子层基本平行于纤维轴排列,因此具有很高的性能。张力因素。在乱层石墨结构中,石墨薄片是最基本的结构单元,薄片相互交叉。几到几十层形成石

显影蚀刻退膜DES(显影蚀刻退膜DES设备)

显影蚀刻退膜DES(显影蚀刻退膜DES设备)

等离子体的“活性”成分包括离子、电子、原子、反应基团、激发核素(亚稳态)、光子等。等离子表面处理(点击查看详情)设备是利用这些活性成分的特性对样品表面进行处理,显影蚀刻退膜DES以达到清洗、镀膜等目的。 (TIGRES 大气等离子表面处理设备)现代远程飞机使用许多新材料或复合材料。复合材料往往是碳纤

电晕机为什么会静电(电晕机为什么产生臭氧气)

电晕机为什么会静电(电晕机为什么产生臭氧气)

在电晕环境中,电晕机为什么产生臭氧气可以通过增加离子撞击表面的加速度或通过化学刻蚀过程选择性地改变表面形貌。电容耦合射频电晕中的离子通常以网络方向向衬底移动。它取决于离子和电子对产生电晕的电场极性变化的反应时间。因为电子比离子轻得多,所以电子反应更快。因此,放置在电子运动路径中的矩阵在等待正离子到达

亲水性镜片(idol是亲水性镜片吗)

亲水性镜片(idol是亲水性镜片吗)

等离子体表面改性是指将材料暴露在非聚合物气体等离子体中,idol是亲水性镜片吗使等离子体与材料表面发生碰撞,改变材料的表面结构,从而实现活化改性。一般来说,功能层的表面改性很薄(几纳米到几百纳米),不会影响材料的整体性能。改性后,材料表面变得亲水、耐磨、具有装饰性。 、着色性能、印刷性、附着力、抗静

硅片等离子体清洗(硅片等离子体清洗暴露硅羟基)

硅片等离子体清洗(硅片等离子体清洗暴露硅羟基)

两种方案都能满足您的要求,硅片等离子体清洗暴露硅羟基参数差异不明显,但进口产品的质量稳定性,尤其是长期工作的质量稳定性,是众所周知的。作为等离子如果客户预算充足,洗衣机厂家肯定会推荐进口配置方案。我们提供的进口配置方案非常划算。等离子表面技术的一个重要过程是等离子清洗。通过与电离气体和压缩空气的化学

氩气等离子体蚀刻机(氧气 氩气等离子清洗机)

氩气等离子体蚀刻机(氧气 氩气等离子清洗机)

当塑料元件放置在放电通道中时,氧气 氩气等离子清洗机放电过程中产生的电子与表面碰撞的能量大约高出两到三倍,破坏了大多数基板表面的分子键。这会产生活性自由基。这些自由基存在于氧气中,可以迅速反应在基材表面形成各种官能团。这种氧化反应产生的官能团可以有效提高表面能,加强与树脂基体的化学键。这些包括羰基

icp 刻蚀(icp 刻蚀 批量生产设备)

icp 刻蚀(icp 刻蚀 批量生产设备)

选用低温等离子体清洗技术,icp 刻蚀 批量生产设备对材料表面进行表面处理,在高速、高能等离子体的轰击下,在材料表面形成活性层,使橡胶材料、塑料印刷、粘接、涂覆等工作。plasma-plastic-rubber表面处理操作简单,修改只有发生在表层上的材料,不影响矩阵的固有属性,和治疗是均匀的;没有有

电除尘反电晕处理(电除尘反电晕处理办法)

电除尘反电晕处理(电除尘反电晕处理办法)

而且电晕处理后的衬底表面具有一定的活化官能团,电除尘反电晕处理有助于制作嵌入式电阻器的化学反应。制作电阻层,衬底表面用电晕处理。退膜工艺后,镍磷电阻层与基底表面的结合力完好无损;而在未经过电晕处理的衬底表面,镍磷电阻层经过剥膜工艺后不能很好地与衬底结合,电阻层几乎全部脱落。电晕是物质的一种状态,电除

亲水性改善(酚醛树脂亲水性改善性能)尼龙亲水性改善

亲水性改善(酚醛树脂亲水性改善性能)尼龙亲水性改善

采用水接触角测量仪对等离子体表面处理前后的PI材料进行测量。水接触角的数量可以从45℃以上减少到5℃以下,尼龙亲水性改善此时如果进行磁控溅射镀膜,铜膜的结合力可以满足预期要求。以下文章将介绍等离子清洗机对聚酰亚胺亲水性改善的机理,请注意。。PI聚酰亚胺材料是制备FPC的重要材料之一,然而,聚酰亚胺材