什么是光刻机掩模对准机也称掩模对准机、曝光系统、光刻系统等。一般光刻工艺要经历硅表面清洗干燥、涂布、旋转涂布光刻胶、软烘烤、对准曝光、后烘烤、显影、硬烘烤、蚀刻等工艺。在硅片表面均匀地涂上一层胶水，疏水性和亲水性滤芯区别然后把掩模上的图案转移到光阻剂上，将一个器件或电路结构暂时“模仿”到硅片上的过程
