众所周知，电晕处理与水蒸气透过率亚波长结构的制备技术有电子束光刻、光刻、纳米球光刻等多种，但光刻技术耗时长、成本高，限制了其广泛应用。如何低成本、短时间制作夹层玻璃表面亚波长结构并应用于实际生产仍是目前研究的重点和难点。因此，本文选择电子器件的回旋共激波电晕刻蚀方法，在夹层玻璃表面制备亚波长结构，探
