干法蚀刻加工设备包括反应室、电源、真空等部件。工件被送到反应室，环氧树脂附着力级别气体被引入等离子体并进行交换。等离子体蚀刻工艺本质上是一种主动等离子体工艺。最近，反应室中出现了架子的形状。这允许用户灵活移动以配置适当的等离子体蚀刻方法（反应等离子体（RIE）、下游等离子体（DOWNSTREAM）、
