2.物理清洗物理清洗常用的气体是氩气。其作用机理是利用等离子体中的离子进行纯物理撞击，环氧基硅烷附着力增进剂敲除材料表面的原子或附着在材料表面的原子。压力低时，离子的平均自由基变长，储存能量，所以在物理冲击中，离子的能量越高，冲击越大，如果以物理反应为主，反应进行，因此需要控制低压。这将提高清洁（效
