将粘合剂涂在硅晶片的表面上，激光表面改性西安交大并将掩模图案转移到光刻胶工艺中，以暂时“复制”器件或电路。在硅片上加工的结构。光刻的目的使表面疏水，增加基材表面与光刻胶的附着力。光刻机工作原理测量台和曝光台：配备硅片的工作台，也就是本次提到的双工作台。光束校正：校正光束的入射方向，使激光束尽可能平行
