目前的应用范围主要用于半导体行业的清洁。射频等离子清洗RF 放电通常在低压下操作，漆膜附着力划叉法适用范围但也可以在正常压力或加压下操作。其特征在于放电气体不与电极接触。高频放电利用高频电场通过电感或电容耦合对反应器中的气体进行放电以产生等离子体。最常用的频率是。由于其高能量和宽范围的射频单电极放电
