plasam体清洗装置的原理是：在真空状态下，湖北等离子晶原除胶机参数压力减小，分子间隙增大，分子间力减小；plasam是通过射频源产生的高压交变电场，使氧气、氩、氢等过程气体振荡成为高活性或高能离子，再与有机污染物、微粒污染物发生反应或碰撞，形成挥发性成分，再用工作气体流量和真空泵将这些挥发性成分
