在薄膜沉积、蚀刻等领域, 和器件清洗, 放电室和反应室都是真空的. 近年来出现了使用各种气体的低温等离子体. 辉光放电产生低温等离子体, 具有低破坏电压、高离子、半稳定分子浓度、高电子中性分子的温度和低温是产生等离子体的大均匀部分，油墨附着力大于8mpa可控性好，无需抽真空。即有必要且可连续清洗表面
