在蚀刻工艺使用多步骤重复进行“蚀刻一排气”的循环工艺使得蚀刻保护层分布更加均匀,河南等离子除胶处理机原理 同时提升偏置功率至通常逻辑工艺使用范围的5~10倍,以提高等离子体到达通孔底部的能力,同时扩展工艺窗口使用更低压力与更高气体流量以排除通孔底部蚀刻生成物,从而解决上述问题