氧气、氩气、氢气等工艺气体以高反应性振动，氩气等离子体去胶高能离子与有机污染物、颗粒污染物发生反应或碰撞形成挥发性物质，通过操作气流和真空泵，消除挥发性物质，达到目的清洗活化表层 这是一种彻底的剥离清洗方法，将废液、金属、半导体、氧化物和大部分高分子材料清洗后进行清洗，其优点是处理得当，具有整体局部
