等离子体表面清洗机属于干洗法，气相二氧化硅亲水性强弱等离子体清洗的原理，主要是依靠等离子体中的活性粒子“活化”来达到去除表面污渍的目的。等离子体清洗通常涉及以下过程:1、无机气体被激发到等离子体状态;2、气相物质吸附在固体表面;3 .被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子经分析形成气相;
