使用单晶片清洗机和主动式清洗台没有太大区别。两者的主要区别在于以45nm为主要边界点的清洗方式和精度要求。简单来说就是主动清洗站多块晶圆一起清洗，日本JAC晶圆清洗机优点是设备成熟，产能高，单晶圆清洗设备一个一个清洗。我有。清洗精度高，背面、斜面、边缘方便。一起清洁以防止污染物散布在晶圆之间。在 4
