氧气是等离子体清洗中常用的活性气体，摄像头模组plasma清洗由于采用物理+化学处理模式，电离后的离子体可以对表面进行物理轰击，形成粗糙的表面。在一起,高度活性氧离子可以被打破后分子链发生化学反应形成的亲水表面活性基团和达到的目的外部激活;打破债券后,有机污染物元素将与高度活性氧离子发生化学反应,形
