在真空设备清洗工艺中常与氩气结合使用，感应耦合等离子体刻蚀去金属可有效去除表面纳米级污染物。材料表面蚀刻的解决方案是选择性地使用反应性气体等离子体腐蚀材料表面。这会将腐蚀材料中的杂质转化为气体，并将其从真空泵中排出。亲水的。可引入氧气（O2）增强蚀刻效果，表面处理等离子清洗机可有效去除光刻胶等有机污
