真空等离子体处理基本上是一个等离子体反应过程，影响附着力的条件影响表面晶体结构的变化或原子化反应。等离子体处理在较低温度下仍能产生高活性基团，如氧气、氮气等非活性环境。在这一过程中，等离子体还会发射高能紫外线，与产生的快离子和电子一起，提供打破聚合物键合键所需的能量，在表面产生化学反应。在这个化学过
