用于半导体基板的等离子体处理的等离子体装置包括用于半导体基板的处理容器、用于将微波引入到处理容器中的微波引入部分、以及用于将处理气体供应到处理容器的气体供应部分......氧、氮和半导体衬底的表面同时被氧化和氮化以形成绝缘膜。高速、高能等离子体的冲击使这些材料的结构表面膨胀，半导体plasma清洁机
