此外，半导体等离子体清洗机器如果必须保持氧气的流动，真空度越高，氧气的相对比例就越高，产生的活性粒子浓度也越高。但是，如果真空度太高，活性粒子的浓度反而会降低。四、氧气流量的调节：氧气流量大，活性粒子密度大，脱胶速度加快，但流量过大，离子复合概率增加，电子平均自由程增加。运动会更短，电离强度也会降低
