这种清洗技术操作方便、效率高、表面清洁、无划痕，附着力原始记录表有助于保证产品在脱胶过程中的质量，而且不需要酸、碱或有机溶剂，越来越受到人们的重视。。等离子清洗机在半导体晶圆清洗过程中的应用随着半导体技术的不断发展，对工艺技术，尤其是对半导体晶圆表面质量的要求越来越高。表面对设备的质量和产量有严重的
