等离子清洗装置的晶圆清洗流程如下：首先，非亲水性涂料将晶圆放置在另一个设备的真空反应室中，然后抽真空。达到一定的真空度后，引入反应气体，这些反应气体被电离形成等离子体。等离子体与晶片表面发生化学和物理反应以清洁晶片表面并产生保持亲水性的挥发物。选择等离子清洗设备进行晶圆清洗需要注意什么？型腔和支撑要
