随着半导体工艺的发展,亲水性强有什么优点等离子体技术在集成电路制造中得到了广泛的应用。离子注入、干法刻蚀、干法脱胶、UV辐射、薄膜沉积等都可能引入等离子体损伤,而常规WAT结构无法监测,可能导致器件早期失效。低温等离子体处理器技术广泛应用于集成电路制造中,如低温等离子体处理器刻蚀、等离子体增强化学气