典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基非常活泼，二氧化硅薄膜表面改性简单地与碳氢化合物反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性物质，然后从表面去除污染物。等离子与工件表面的具体作用是：等离子体与工件表面的化学反应与传统的化学反应有很大不同。由于高速电子的影响，二氧化硅的表
