广东芳如达科技有限公司 2023-03-08 10:49:00 115 阅读
因为PTFE独特的分子式,面漆与底漆的层间附着力附着力低,特异性小,是非常典型的难粘塑胶,但在四氟乙烯的现实运用中,通常情况下会开展设计印刷,或与其他材质开展粘结,因而为确保粘结和设计印刷的产品质量,通常情况下都是对四氟乙烯开展相应的表层改性材料加工清理,比较常见的包含钠萘溶剂换置加工清理、等离子表面处理设备、激光束加工清理、连续熔化等。
产生的自由基在电晕放电过程中与产物的氧化反应迅速反应,面漆与底漆的层间附着力或与相同或不同链上的相邻自由基反应形成交链。表面氧化会增加表面张力或表面能,从而更好地润湿液体并促进粘附。研究表明,强氧化剂的形成对粘附的发展并不重要,但湿张力与聚合物表面的氧化有关,表面带有极性基团,主要是羟基、羰基,并形成酰胺基。 ..电晕放电有效地增加了许多对介质(如印刷油墨和粘合剂)附着力低或没有附着力的材料的表面张力。
真空等离子清洗机应用于线路板,LED,手机行业,真空等离子处理设备稳定性强,面漆与底漆的层间附着力提高产品表面附着力,处理效果好,生产速度提高,降低客户成本.可将等离子技术应用到涂装生产线中。真空等离子清洗机在电路板行业的具体应用:1、去脏污,活化,主要用于多层硬板,软性电路板,软硬结合板去脏污,胶渣,激光钻孔后孔内碳化物处理,聚四氟乙烯印制板孔金属化前的孔壁活化,涂覆前的板面活化处理。
对此,面漆与底漆的层间附着力原料表层经过大气射流低温等离子体处理会呈现非常明显的变化:色调会变得略浅,反射率降低,呈哑光;用手接触可以感觉到表层略显粗糙;大大提高了喷涂的粘附特性。可以测量等离子体表面处理前后的附着力。测量手段:用划痕刀将被测结构表层划痕为垂直十字形结构,用刷子轻刷划痕线表层,去除破碎的泡沫。用透明胶带紧贴标线,胶带与样品之间不能有气泡,并保持1~2分钟;以大约60度的稳定速率撕下胶带。
面漆与底漆的层间附着力
化学镀镍磷制作嵌入式电阻器的工艺有以下六个主要工艺步骤:(1)采用传统生产工艺制作所需的电路图形;(2)等离子体刻蚀使衬底表面粗化;(3)用钯活化法活化基底表面;(4)贴干膜,曝光显影,需要做电阻的地方显影;(5)采用化学镀镍磷工艺制备嵌入式电阻器;(6)最后除去干膜。通过实验研究可以看出,等离子体处理后的基体表面电阻层附着力较好。特别是当需要在PI衬底上制作嵌入式电阻时,等离子体处理的效果更好。
2.等离子体在电子工业中的应用:生产大规模集成电路芯片的技术被等离子体法取代后,不仅降低了工艺过程中的温度,还将涂胶、显影、蚀刻、脱胶等化学湿法改为等离子体干法,使技术更加简单,实现了等离子体在材料表面改性中的自动化应用,主要包括以下几个方面:①改变润湿性(也称润湿性)。有机化合物的表面润湿性对颜料、油墨、胶粘剂的附着力以及闪压、表面漏电流等电性能有很大影响。测量的润湿性的量称为接触角。②增强黏附力。
06下游产业的持续推进在我国大力推进“互联网+”发展战略的背景下,云计算、大数据、万物互联、人工智能、智能家居、智慧城市等新兴领域蓬勃发展,新技术、新产品不断涌现,有力推动了PCB行业的发展。可穿戴设备、移动医疗设备、汽车电子等新一代智能产品的普及,将极大刺激HDI板、柔性板、封装基板等高端电路板的市场需求。
低温等离子清洗机具有以下优点:在环保技术方面,低温等离子清洗机表面处理工艺为气固共格反应,不消耗水资源,不添加化学品;2 .低温等离子清洗机全过程可在短时间内完成,(效)率高;3 .低温等离子清洗机设备简单,使用维护方便,用少量的蒸汽即可替代昂贵的清洗液,同时无需废液处置,成本极低;5.低温等离子清洗机可深入内部的微孔和凹陷处,完成清洗任务,清洗效率可达99%,显微处置(效果)更佳,水果更细;低温等离子清洗机表面处理设备可以实现对大部分固体物质的处置,其工业应用相当广泛。
面漆与底漆无附着力
满足以上条件后,面漆与底漆的层间附着力自动等离子清洗机可用于软硬结合板、高频聚四氟乙烯、多层软板等制造工艺,如脱胶渣处理、柔性板前后洗金、钢丝前清洗、SMT前清洗、解决了PCB生产过程中印刷不清晰的问题。电子元件等离子清洗:由于等离子体的正负离子相等,所以电子元件自动等离子清洗机的清洗电位为零。不会造成电路板短路和损坏电子设备。等离子体可提供超精密线路板清洗、静电去除、除尘、面积活化,解决涂层附着力差的问题。
线路板等离子蚀刻清洗设备去除表面材料中的多晶硅杂质并脱胶。由于半导体工艺技术的不断发展,面漆与底漆的层间附着力湿法刻蚀技术由于其固有的局限性而逐渐限制了其发展,不再能够满足VLSI微米级的要求。甚至是纳米线加工要求。等离子刻蚀清洗设备 多晶硅片清洗设备 干刻法是一种半导体工艺,因为它具有离子密度高、刻蚀均匀、刻蚀侧壁垂直度高、表面光洁度高、能去除表面杂质等优点。被广泛使用。等离子表面处理机去除胶粘剂,去除胶粘剂的气体为氧气。
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发布日期:2023-03-08 10:49:00