广东芳如达科技有限公司 2023-02-11 09:32:33 160 阅读
一般认为CeO2/Y-Al203是甲烷完全氧化制CO的优良催化剂,偶联剂提高铝附着力机理不利于C2烃的生成。同样,Sm2O3/Y-Al2O3虽然是一种优异的甲烷氧化偶联催化剂,但在等离子等离子体气氛中催化活性不明显。这说明等离子体与催化剂的作用机理不同于纯催化,有必要进一步研究等离子体与催化剂的作用机理。
由于C2H6是甲烷脱氢偶联反应的初级产物,偶联剂提高铝附着力机理C2H4和C2H2分别是C2H6和C2H4进一步脱氢的次级产物,因此存在以下反应途径。通过对脉冲电晕等离子体中纯乙烷和纯乙烯脱氢反应的研究,纯乙烷脱氢的主要产物是C2H4和C2H2,而纯乙烯脱氢的主要产物是C2H2。如3-20)所示,等离子体作用下的甲烷脱氢偶联反应有一条反应路径。
由于 C2H6 是甲烷脱氢偶联反应的初级产物,偶联剂提高铝附着力机理C2H4 和 C2H2 分别是 C2H6 和 C2H4 进一步脱氢的次级产物,因此存在以下反应途径: CH4 → C2H6 → C2H4 → C2H2 (3-20)因此,通过研究纯乙烷和纯乙烯在脉冲电晕等离子体中的脱氢反应,纯乙烷脱氢的主要产物是C2H4和C2H2,而纯乙烯脱氢的主要产物是C2H4和C2H2。
结果表明,偶联剂提高附着力纯乙烷脱氢的主要产物为C2H4和C2H2,纯乙烯脱氢的主要产物为C2H2,说明等离子体下甲烷脱氢偶联反应确实具有式(3-20)所示的反应途径。
偶联剂提高附着力
值得注意的是,在CO2氧化CH4制C2烃反应中,CeO2/Y-Al203与等离子表面处理器一同效用呈现出不错的催化活性,这与CeO2/Y-Al203在催化法CH4氧化偶联反应中的效用明显不一样,一般认为CeO2/Y-Al203是CH4完全氧化产生CO的优良催化剂,不利于产生C2烃;同样,虽然Sm2O3/Y-Al2O3是优良的CH4氧化偶联反应催化剂,但在plasma等离子体气氛下其催化活性并不明显。
对于不含氧的高分子材料,处理后只能与空气中的氧气一起引入。。等离子体清洗机影响下O2 -甲烷氧化产生C2烃类反应的响应机制:等离子体清洗机诱发的自由基反应与多相催化反应非常相似,但等离子体清洗机是一种非常有效的自由基引发方式。目前对CO2氧化甲烷一步制C2烃类反应机理的看法是一致的:CO2在等离子体作用下发生分解反应生成一氧化碳和受激的亚稳态活性氧。这种氧在甲烷氧化偶联反应中特别活跃。
常用的等离子体激励频率有三种:激励频率为40kHz的超声等离子体、激励频率为13.56MHz的射频等离子体和激励频率为2.45GHz的微波等离子体。不同等离子体产生的自偏压不同。超声等离子体的自偏压约为0V,射频等离子体的自偏压约为250V,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏,而且三种等离子体的机理不同。
目前,CO2一步氧化CH4制C2烃的反应机理是CO2在等离子体作用下分解生成CO和激发亚稳态活性氧,这些活性氧在甲烷氧化偶联反应中非常活跃。
偶联剂提高铝附着力机理
不同气体的等离子体具有不同的化学性质,偶联剂提高附着力如氧等离子体具有高氧化性,可以将光刻胶反应氧化生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有良好的各向异性,因此可以满足刻蚀的需要。当使用等离子体时,会发出辉光,因此称为辉光放电。等离子体清洗设备的机理主要取决于等离子体中的活性粒子。达到去除物体表面污渍的目的。
本文分类:晋中
本文标签: 偶联剂提高附着力 偶联剂提高铝附着力机理 等离子表面处理 等离子体清洗机 等离子体 等离子
浏览次数:160 次浏览
发布日期:2023-02-11 09:32:33