光刻胶又称光刻胶。光刻胶通过曝光、显影和蚀刻在每一层结构表面上形成所需的图案。后一层加工时，橡胶表面处理电晕需要完全去除前一层使用后的光刻胶。光刻胶的传统去除方法是湿法去除，所以最终的结果是清洗不彻底，容易引入杂质等。当低温电晕清洗技术逐渐成熟后，晶圆光刻胶将通过这种干洗处理，如电晕，可以有效去除晶
