主要的新特征工艺是围绕三维结构制作的，三维空间电晕处理机公司包括①阶梯蚀刻；蚀刻所述通道通孔；刻蚀切口；接触孔蚀刻。1.电晕器，电晕清洗器，阶梯蚀刻分步蚀刻的目的是将各控制栅层分开连接，以便后续工艺。由于控制栅层处于堆叠状态，需要在水平方向上进行不同程度的延伸，后续工艺制备的接触孔结构分别连接不同的
