目前，附着力法则流行点的有赖于单晶硅蚀刻主要有两种方法:一种是湿法，湿法蚀刻由于其一定的局限性，如大量使用有毒化学品，操作不安全，横向渗漏，以及浸泡膨胀的结果导致附着力差，咬边分辨率下降，已逐渐被干法蚀刻所取代。蚀刻硅的第二种方法是等离子体等离子体干蚀刻。传统的等离子体刻蚀技术主要是在低压真空室中进
