李发现如栅氧化层击穿由于侧壁尺寸太小,这是不均匀性造成的井壁腐蚀大小,Mahesh后侧壁腐蚀过程中如发现一步消除残余聚合物,与等离子体清洗机H2 / N2气体等离子体,等离子体设备O2 / N2等离子体能显著提高TDDB的质量。他们认为等离子清洗机O2/N2等离子设备具有较强的聚合物去除能力，软板等
