实验结果表明，薄膜plasma表面清洗低压等离子体处理后薄膜的表面形貌和化学结构发生了变化，刻蚀厚度和溶解厚度随处理时间的延长而增加。强度、芯吸高度和退浆率随等离子体处理时间的延长而增加。由于低压等离子体处理设备需要密闭反应室，成本高，难以实现连续处理。在刻蚀薄膜过程中，低压等离子体处理比常压更易沉
