可见，纳米二氧化硅表面改性研究利用等离子体设备清除(去除)油污的步骤是一个有机大分子逐步降解的步骤，生成水、二氧化碳等小分子，以气态形式排除。等离子体设备设备清洗的另一个特点是清洗后物体已经完全干燥。经等离子体设备处理的物体接触面往往形成大多新的活性基团，使物体接触面活(化)，改变性能，可以大大提高
