读一篇文章中的电晕刻蚀1.电晕：应用广泛且杂乱的物理过程电晕刻蚀技术在集成电路制造领域的发展已有40多年的历史。20世纪70年代开始引入用于脱胶，电晕机的绝缘辊80年代已成为集成电路领域成熟的蚀刻技艺。常用的刻蚀电晕源有电容耦合电晕(CCP)、电感耦合电晕(ICP)和微波ECR电晕(ECR)。通过控
