避免严重污染物影响和芯片加工性能缺陷的半导体单片机晶体硅晶片在制造过程中需要几个表面清洁步骤。 --- 等离子清洗机是单晶硅片光刻胶的理想清洗设备。等离子体被电场加速，硅片plasma刻蚀机器在电场的作用下高速运动，在物体表面产生物理碰撞，产生足够的等离子体能量去除各种污染物。智能制造-_等离子清洗
