这些污染物的形成原因、组成及去除方法:颗粒:颗粒主要是聚合物、光刻胶和蚀刻杂质。这种污染物通常吸附在芯片表面，皮肤附着力差怎么改善影响器件光刻过程的几何和电学参数。这类污染物的去除方法主要是通过物理或化学方法对颗粒进行清洗，逐渐减少颗粒与晶圆表面的接触面积，然后将其去除。有机物质:有机杂质来源广泛，
