使用与集成电路技术兼容的简单物理方法，疏水性基团和亲水性基团使热生长的二氧化硅表面疏水或向附近表面引入电荷，以利于驻极体电荷稳定性。改进和集成麦克风。基于过程。 Plasma Cleaner 用等离子体对SiO2/Si薄膜样品进行物理处理，可以有效提高驻极体电荷的储存稳定性。不同类型的等离子体具有非
