等离子体清洗mechanismPlasma技术,从1960年代开始应用在化学合成、膜制备、表面处理和精细化工等领域,在大型或超大规模集成电路技术干燥,温度低,近年来也在开发应用等离子体聚合,等离子体蚀刻和等离子体灰化及等离子体阳极氧化等干燥工艺技术。等离子体清洗技术也是干法工艺的进步之一。与湿法清洗
