实现更高的去除率、更高的能源效率和更大的处理能力将有利于未来的工业应用。。超光滑硅片等离子处理器表面处理研究：等离子处理器可以通过溅射去除处理过的转变层，pp附着力uv单体降低表面粗糙度，提高硅片的表面清洁度和表面能。优化的参数证实，与未经等离子处理的晶片相比，经等离子处理的晶片在涂层后平均损失 3
