低温等离子体设备的等离子体电源清洗技术实际上是一种高精度干洗设备，机械试验影响镀层附着力其清洗范围为纳米级有机和非有机机械污染物。在等离子体清洗应用中，主要采用低压气体辉光等离子体。一些非高分子无机气体(Ar、N2、H2、O2等）在高频低压下被激发产生离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子。一般在等
