等离子体清洗属于干洗，晶圆除胶机器采用气相化学法去除物料表面的污染物。气相化学方法主要有热氧化法和等离子体清洗法等，清洗过程是将热化学气体或等离子体反应气体引入反应室，反应气体与晶圆表面反应生成挥发性反应产物，在真空中抽走。等离子体基础知识：等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫物质
