等离子清洗机，惠州等离子刻蚀Wafer晶圆去除光刻胶 晶圆光刻蚀胶等离子清洗机与传统设备相比较，成本低，加上清洗过程气固相干式反应，不消耗水资源，不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂，这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺。此外，等离子清洗机解决了湿法去除晶圆表面光刻胶反应不准确、清洗不彻底、易引入杂
