一、等离子体设备清洗的基本技术原理1.在密闭真空室内，亲水性原子团通过不断泵送真空泵，使压力值逐渐降低，真空度增大，分子间距增大，分子间作用力变小，氩气、H2、N2、O2、CF4等工艺气体经等离子体发生器产生的高压交变电场激发振荡，成为高活性或高能等离子体，与（机）污垢、微粒污垢反应或接触，成为挥发
