等离子清洗剂在光刻胶去除中的详细用途：等离子清洗剂的应用包括预处理、灰化/抗蚀剂/聚合物剥离、晶圆凸块、静电去除、介电蚀刻、有机去污、晶圆减压等。等离子清洗机不仅可以彻底去除光刻胶等有机物，平板等离子刻蚀机还可以活化和增厚晶圆表面，提高晶圆表面的润湿性，提高晶圆表面的附着力。...与传统设备相比，晶
