135-3805-8187
多晶硅刻蚀气体(多晶硅刻蚀工艺的研究)

多晶硅刻蚀气体(多晶硅刻蚀工艺的研究)

转载请注明出处。。等离子表面处理器台阶高度对多晶硅栅极蚀刻的影响 等离子体表面处理器台阶高度对多晶硅栅极蚀刻的影响:地形对多晶硅栅极尺寸也有显着影响。 (浅沟槽隔离的台阶高度表征了多晶硅生长前的晶圆表面形貌。由于炉多晶硅的平面生长,多晶硅刻蚀气体正台阶高度(浅沟槽隔离氧化硅的顶面活性区)变厚多晶硅靠