在真空室中，半导体等离子去胶设备射频电源在一定压力下产生高能无序等离子体，通过等离子轰击清洗产品表面。达到清洗的目的。等离子体处理可纳入导电，半导电和非导电应用。等离子体清洗表面的有效方法是去除杂质、污染物、残留物和有机(机械)化合物。这个过程被称为微清洗或蚀刻，提供了提高附着力的另一个重要方面。此
